RFマグネトロンの誘電体スパッタ

計算概要　 -Computation Summary-

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。

項目・・・

a.『モデル概要』

b.『中性ガス圧力と静磁場』

c.『電子と電子数密度』

d.『イオンエネルギー』

e.『スパッタと成膜』

関連コラム　‐Column-

←「Particle-PLUS　事例集」へ戻る　

株式会社ウェーブフロント 

営業部 

メール：sales@wavefront.co.jp

TEL：045-682-7070