ロールツーロールスパッタ

Particle-PLUSでは、カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレーションが可能です。カットセル法を用いることで、形状を厳密に再現することができるために、回転ターゲットからスパッタされる粒子の挙動を正確に計算することが可能です。特に回転ターゲットの場合は、スパッタ粒子が回転面に対して法線方向に射出されるために、直交メッシュではスパッタ粒子の挙動を正しく再現することができません。カットセル法によるメッシュを用いることで、スパッタ粒子の射出方向を正しく計算することが可能となります。

Particle-PLUSのパッケージであるWF-Geom2Dを用いてカットセルのメッシュを作成することが可能です。また、ポテンシャルの計算は直交メッシュを用いており、精度が良い電場計算が可能です。その際に、カットセルの境界上の電圧は回転ターゲットの電圧になるように計算されています。

項目・・・

Fig.1『カットセルメッシュ』

Fig.2『Ar＋イオン密度分布とフラックス分布』

Fig.3『タンタルの密度分布との

　　　　　　　　　　　基盤へのフラックス分布』

Fig.1『カットセルメッシュ』